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表面分析 X射線光電子能譜儀
X射線光電子能譜儀
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PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗,儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 $n操作界面可在同一個屏幕內(nèi)設(shè)置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù),同時保留諸如進樣照片導(dǎo)航和 SXI 二次電子影像精細定位等功能。
 更新時間:2025-10-20
更新時間:2025-10-20 產(chǎn)品型號:PHI Genesis 500
產(chǎn)品型號:PHI Genesis 500 瀏覽量:8355
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硬X射線光電子能譜儀HAXPES,下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(QDs),結(jié)合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(Cr Ka x射線)對同一微觀特征區(qū)域進行分析,可以對 QDs 進行詳細的深度結(jié)構(gòu)分析。
 更新時間:2025-10-20
更新時間:2025-10-20 產(chǎn)品型號:PHI Genesis 900
產(chǎn)品型號:PHI Genesis 900 瀏覽量:4882
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